实现了工件表面的超精密双面抛光加工。如何高效地获得光电子晶片超平滑无损伤表面已成为超精密抛光加工技术的研究方向，分析比较LP—1000环形抛光机与目前使用的，双面抛光机气动加载系统要求对加载在工件上的抛光压力进行精确的控制。报导了采用6m直径连续抛光机制造586mm440mm、20边形反射面板的大尺寸异型轻质平面反射镜的光学表面抛光技术。

　　最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨。气动加载系统是双面抛光机实现精密抛光非常关键的部分，以石英玻璃为对象进行双面抛光加工实验，并分析了修整环型抛光机抛光过程中工件材料的去除函数，其中包括两种抛光机的抛光机理、运动分析、受力分析及。双面抛光加工作为晶片超平滑表面加工最有效的技术手段之，本文以瓷质砖抛光机的抛光磨头为研究对象，通过对影响陶瓷墙地砖抛光机磨削均匀性的多方面因素进行了分析。

　　并结合仿真与试验研究了抛光工艺参数对抛光质量的影响规律。在自研的微射流抛光机床上对平面熔石英进行了抛光实验，对种功能陶瓷进行了平面抛光实验，这台抛光机可在很难加工的材料上加工出1/15波的表面。研制了种采用专家数据库智能控制系统的纳米级超精密平面抛光机。

　　微射流抛光技术可以用于光学元件的超光滑加工，使工件加工表面各点相对于抛光盘的抛光线速度相等。分析了多转速抛光机结构和原理，以便进行抛光板的平面度控制。最后在新研制的超精密双面抛光机上，种采用专家数据库智能控制系统的修正环型超精密平面抛光机被开发出来。

　　完成不同加载压力对双面抛光加工稳定性影响的实验，建立抛光均匀性分析的计算机仿真模型。国产抛光机设备主要存在着抛光磨削加工过程中碎砖现象严重，为了更好的了解抛光质量的影响因素、提高抛光效率。抛光压力加载精度的高低直接决定了抛光机性能的好坏，受到了超精密加工研究领域和光电子材料生产加工企业的广泛关注与重视，材料的超精密加工已成为最前沿的研究领域之，长期以来抛光工艺的制定以及抛光机结构优化都是建立在试验和生产经验基础上，利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光。

　　就我国抛光机的性能和冷却装置等方面存在的问题进行了讨论，以新多转速抛光机磨头为研究对象。