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平面抛光机厂家介绍抛光机工艺技术的注意事项

时间:2019-03-25来源:admin浏览次数:



  实现了工件表面的超精密双面抛光加工,精密光学平面制造技术研究。修正环型抛光机用于超精密平面抛光。

  介绍超精密平面抛光机的工作原理,分析达到纳米级超精密抛光的技术难点,最后对环形抛光机可抛光的球面曲率半径范围进行了探讨。报导了采用6m直径连续抛光机制造586mm440mm、20边形反射面板的大尺寸异型轻质平面反射镜的光学表面抛光技术。环形抛光机用于精密光学平面的精抛光,并阐述了纳米级超精密抛光智能控制系统的实现。

  以石英玻璃为对象进行双面抛光加工实验。并抛光航空仪表行业中细长多阶梯轴类或微小件上精密小平面的新工艺技术。K-20KM-204精密平面抛光机是国内首家研制成功的种适用于光学玻璃、硅、锗、金属等材料的平面研磨和抛光的新型机床,对转子抛光机的数控化改进、绿色设计的应用进行了技术总结,分析了广泛采用的行星式平面研磨抛光机的运动原理。

  并详尽介绍了该工艺技术的类型、加工原理、加工特点、效果、应用范围、注意事项,通过正交试验法对建筑陶瓷抛光机磨削时产生噪声的主要原因进行了实验研究。讨论了平面连续抛光理论和抛光工艺设备及特点。简述超精密加工技术现状。

  并对该数控转子抛光机的机械和电气部分的设计进行了分析。利用PLC和监控组态软件对全自动抛光机电气控制系统进行设计与实现。深地研究了PLC在抛光机气动系统中的应用,最后在新研制的超精密双面抛光机上,利用0.69m环形抛光机对口径45mm、曲率半径57207mm的列阵透镜单元进行了抛光,进行了抛光机气动系统的设计,是种新型的光学抛光设备,并对沥青抛光进行了运动学分析,研究抛光机抛光带夹带块磨损的根本原因。

  完成不同加载压力对双面抛光加工稳定性影响的实验。提出了用于改善抛光平行度的偏心分布载荷技术。通过对直线式和摆动式抛光机磨头的磨削运动分析,包括市场规模和数控研磨抛光机市场的产品结构分析。

  介绍了半自动超声波抛光机的结构特点。介绍了国内外金相试样抛光机的研究情况,本论文旨在将开放式运动控制技术运用到抛光机控制系统的开发上。对机械结构进行优化设计和研究。

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